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　　專利規(guī)避設(shè)計是指為規(guī)避專利保護范圍，重新研發(fā)、設(shè)計涉及專利侵權(quán)的產(chǎn)品或產(chǎn)品中的某些特征，在設(shè)計思路上重于如何利用不同之構(gòu)造來達成相同之功能，使其產(chǎn)品具有差異化的特征，以達到避免觸犯他人權(quán)利。

　　專利規(guī)避設(shè)計是一項源于美國的合法競爭行為。最初專利規(guī)避設(shè)計只是當(dāng)做專利系統(tǒng)工作的一種方式，旨在鼓勵發(fā)明和促進大眾文化的進步?？梢远x為企業(yè)為了避開其他競爭者公司的專利權(quán)利要求的阻礙或者襲擊而進行的新設(shè)計繞道發(fā)展的設(shè)計過程。專利規(guī)避由法律、專利策略等方面的規(guī)避已經(jīng)轉(zhuǎn)化為規(guī)避設(shè)計，通過重新對技術(shù)方案的改進來實現(xiàn)與現(xiàn)有專利的保護范圍不同的新技術(shù)。

　　專利規(guī)避最初的目的是從法律的角度來繞開某項專利的保護范圍以避免專利權(quán)人進行侵權(quán)訴訟，專利規(guī)避是企業(yè)進行市場競爭的合法行為pJ。因此首先對專利規(guī)避設(shè)計的實施方法做出回應(yīng)的多源于法律學(xué)者，并隨著專利糾紛案件的不斷積累，總結(jié)與歸納出了相應(yīng)的組件規(guī)避原則，主要是從刪除、替換、更改以及語義描述的變化等方面進行專利規(guī)避。

　　實際應(yīng)用中專利規(guī)避設(shè)計可遵循以下三點原則：

　　1、減少組件數(shù)量以滿足全面覆蓋原則;

　　2、使用替代的方法使被告主體不同于權(quán)利要求中指出的技術(shù)以防止字面侵權(quán);

　　3、從方法/功能/結(jié)果上對構(gòu)成要件進行實質(zhì)性改變，以避免侵犯等同原則。

　　專利規(guī)避設(shè)計原則是從侵權(quán)判斷的角度進行分析，根據(jù)權(quán)利要求書分析專利的必要技術(shù)特征，對其進行刪減和替代，以減少侵權(quán)的可能性。專利規(guī)避設(shè)計原則，是宏觀層面上的指導(dǎo)方針，對設(shè)計人員來說，需要具體可以實施的過程來詳細指導(dǎo)如何在現(xiàn)有專利技術(shù)基礎(chǔ)上進行重組和替代，開發(fā)出新的技術(shù)方案繞開現(xiàn)有專利的保護范圍。功能裁剪作為有效的分析工具能夠指導(dǎo)設(shè)計人員進行技術(shù)分析，并結(jié)合專利規(guī)避設(shè)計原則選擇合理的技術(shù)進行刪除或替代，從根本上突破現(xiàn)有專利的技術(shù)壟斷。